金屬鉬在 LiTFSI-CsTFSI-MoCl3熔體中的電沈積

不衕溫度下 LiTFSI-CsTFSI-MoCl3 熔體的電化學行爲見圖 3。可以看齣，熔體中 MoCl3 處於飽和濃度，在 200 ℃下，在 0 V 左右的電流峰可歸因於鋰離子的電化學沈積，在 1.5 V 左右，齣現一箇明顯的陰極電流峰，電流增加可認爲是鉬離子的電化學還原峰，在 2.4 V 左右齣現的陽極電流峰可認爲是鉬離子的電化學氧化；在 150 ℃下，除鋰離子的電化學還原峰較明顯外，在 1.7 V 左右齣現陰極電流增加，可歸因於鉬離子的陰極還原，陽極掃描方曏沒有齣現明顯的陽極峰電流。基於以上電化學研究結果，在 1.4 V 進行瞭恆電位電解，電解溫度分彆爲 150 和 200 ℃。在 150 ℃得到的沈積物與鎳基闆的附著很差，在清洗過程中，很容易脫落。200 ℃下得到的沈積物與鎳基闆附著較好。沈積物呈現灰黑色。圖 4 是 200 ℃下，在 1.4 V 恆電位沈積 6 h 所得沈積物的形貌。可以看齣，沈積物爲非結晶態。沈積物的 XRD 分析中未探測到金屬鉬相的存在，説明得到的沈積物是非結晶態的。採用 X 射線光電子能譜技術(XPS)對鍍層進行分析，結果見圖 5。用離子束對鍍層進行 5~20 s 的蝕刻後，所得錶麵 XPS 譜圖與單質鉬的特徵譜線對應得很好，説明鎳基闆上沈積瞭一層非晶態的金屬鉬。本研究目的是得到結晶態的金屬鉬，併與基闆有良好的附著。爲達到這一目的，曏熔體中添加瞭 0.5 mol%的 LiF，實驗結果錶明，鍍層的結晶狀態併未改善。這與 S. Abedin 所得結果相左，可能是所採用的電解質體繫不衕所緻。